Yleiskehite valolakkojen ja positiivilevyjen kehittämiseen. Kehiteessä ei ole natriumhydroksidia (NaOH), mikä parantaa turvallisuutta ja vähentää ihoärsytyksen ja materiaalien vaurioitumisen riskiä.

Tuotteen ominaisuudet

• Terävät ja selkeät rajaukset, välttämättömiä litografiassa, piirilevyjen ja integroitujen piirien valmistuksessa.
• NaOH-vapaa koostumus vähentää ihoärsytyksen ja materiaalivaurioiden riskiä.
• Soveltuu valolakkojen lisäksi myös valokuvien kehittämiseen – yleiskäyttöinen ratkaisu monille aloille.
• Tiheys: 0,85 g/cm³ → helppo annostella ja levittää tasaisesti
• Sulamispiste: n. 72 °C → stabiili laaja-alaisissa lämpötiloissa
• Korkea lämmönkestävyys → luotettava myös vaativissa olosuhteissa
• pH-arvo: 12–13 → tehokas, mutta käyttäjäystävällisempi
• Valkoisuusaste: > 80 % → puhtaat ja selkeät kehitystulokset

Käyttökohteet

Fotolitografia: Tarkkojen elektroniikkapiirien ja piirilevyjen valmistukseen.

Positiivilevyt: Terävät kuviot ja laadukas kehitys integroitujen piirien ja piirilevyjen tuotannossa.

Valokuvaus ja mikrolitografia: Soveltuu myös kuvankehitykseen sekä taiteellisiin käyttötarkoituksiin, joissa tarkkuus on tärkeää.

Käyttö

1. Liuota 22 g kehiteainetta 4 dl vettä, jonka lämpötila on 50 °C.
2. Sekoita, kunnes aine on täysin liuennut.
3. Jäähdytä huoneenlämpöön.
4. Kehitysaika: 30–60 sekuntia.

Käyttöturvallisuustiedote